压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统评标结果公示公告(1)

2026-07-02   机电产品招标投标电子交易平台
项目名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射+磁控溅射+金属沉积系统
招标项目编号:0618-264TC26070A5
招标范围:1.1设备采购名称:压电/铁电薄膜沉积磁控溅射,1套,只接受全新设备。 1.2设备用途:主要用于光电、传感和铁电存储领域,实现高质量压电铁电掺杂氮化铝薄膜和配套电极材料的制备。 1.3设备作业基本流程:①装片->②预处理->③生长->④取片->⑤测试。
招标机构:中招国际招标有限公司
招标人:上海芯源创新中心
开标时间:2026-06-30 09:30
公示开始时间:2026-07-02 20:01
评标公示截止时间:2026-07-07 23:59
中标候选人名单:
候选人排名投标商名称制造商制造商国别及地区
1香港爱科美半导体有限公司Ulvac,Inc.日本